湿电子化学品的纯度等级湿电子化学品的纯度等级是国际半导体设备与材料协会 SEMI 制定的标准SEMI C1 等标准用 Grade等级来划分从 G1 到 G5等级数字越大、纯度越高、对应的芯片工艺越先进。这个分级的核心是控制化学品里的杂质含量——主要是金属离子杂质和颗粒微粒这两大类。为什么要分级湿电子化学品是半导体制造里大量使用的液体化学品包括各种酸氢氟酸、硫酸、盐酸、硝酸、磷酸等、碱氨水、氢氧化钾等、溶剂异丙醇 IPA 等、双氧水、以及各种清洗液和刻蚀液。它们用在清洗、刻蚀、去胶、显影等几乎所有湿法工序。分级的核心控制指标G1 到 G5 主要控制两大类指标1. 金属杂质含量控制各种金属离子的浓度单位通常是 ppm百万分之一、ppb十亿分之一、ppt万亿分之一。等级越高允许的金属含量越低。G1 级金属杂质在 ppm 量级G5 级金属杂质要控制到 ppt 量级每高一个等级金属杂质要求大约严格一个数量级。2. 颗粒微粒控制控制颗粒的尺寸和每单位体积的颗粒数量。等级越高要求能控制的颗粒尺寸越小、允许的颗粒数越少。低等级控制较大颗粒如 0.5μm的数量高等级要控制到很小的颗粒如 0.2μm、0.1μm 甚至更小且数量限制更严。此外还可能控制阴离子、有机物、水分等指标但金属和颗粒是最核心的两项。G1 到 G5 的对比总览|等级|金属杂质水平|颗粒控制|对应工艺节点|定位|| — | — | — | — | — ||G1|ppm 量级|较大颗粒| 1.2 μm|最低电子级、老工艺||G2|亚 ppm ~ 几十 ppb|较严|0.8 ~ 1.2 μm|稍先进||G3|ppb 量级|较小颗粒|0.2 ~ 0.8 μm|中高端、成熟制程主流||G4|ppb 以下 ~ 几十 ppt|很小颗粒|0.09 ~ 0.2 μm|高端、较先进制程||G5|ppt 量级|极小颗粒、极少| 90nm65/45/28nm 及以下|最高端、先进制程|
湿电子化学品的纯度等级湿电子化学品的纯度等级是国际半导体设备与材料协会 SEMI 制定的标准SEMI C1 等标准用 Grade等级来划分从 G1 到 G5等级数字越大、纯度越高、对应的芯片工艺越先进。这个分级的核心是控制化学品里的杂质含量——主要是金属离子杂质和颗粒微粒这两大类。为什么要分级湿电子化学品是半导体制造里大量使用的液体化学品包括各种酸氢氟酸、硫酸、盐酸、硝酸、磷酸等、碱氨水、氢氧化钾等、溶剂异丙醇 IPA 等、双氧水、以及各种清洗液和刻蚀液。它们用在清洗、刻蚀、去胶、显影等几乎所有湿法工序。分级的核心控制指标G1 到 G5 主要控制两大类指标1. 金属杂质含量控制各种金属离子的浓度单位通常是 ppm百万分之一、ppb十亿分之一、ppt万亿分之一。等级越高允许的金属含量越低。G1 级金属杂质在 ppm 量级G5 级金属杂质要控制到 ppt 量级每高一个等级金属杂质要求大约严格一个数量级。2. 颗粒微粒控制控制颗粒的尺寸和每单位体积的颗粒数量。等级越高要求能控制的颗粒尺寸越小、允许的颗粒数越少。低等级控制较大颗粒如 0.5μm的数量高等级要控制到很小的颗粒如 0.2μm、0.1μm 甚至更小且数量限制更严。此外还可能控制阴离子、有机物、水分等指标但金属和颗粒是最核心的两项。G1 到 G5 的对比总览|等级|金属杂质水平|颗粒控制|对应工艺节点|定位|| — | — | — | — | — ||G1|ppm 量级|较大颗粒| 1.2 μm|最低电子级、老工艺||G2|亚 ppm ~ 几十 ppb|较严|0.8 ~ 1.2 μm|稍先进||G3|ppb 量级|较小颗粒|0.2 ~ 0.8 μm|中高端、成熟制程主流||G4|ppb 以下 ~ 几十 ppt|很小颗粒|0.09 ~ 0.2 μm|高端、较先进制程||G5|ppt 量级|极小颗粒、极少| 90nm65/45/28nm 及以下|最高端、先进制程|
