在本示例中模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方位于相移区域。由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D yes标签以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后就可以描述传入区域就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入光线的传输方向为Z方向。相位分布如下图所示相移区域的影响清晰可见导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差
在本示例中模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方位于相移区域。由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D yes标签以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后就可以描述传入区域就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入光线的传输方向为Z方向。相位分布如下图所示相移区域的影响清晰可见导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差
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